FUJINON XF16-55mmF2.8 R LM WR

Nano GI ochrana pre optimálnu kvalitu Objektív má povrchovú vrstvu Nano GI, ktorá pomáha obmedziť výskyt duchov a odleskov. Táto povrchová úprava funguje v tandeme s povrchovou úpravou HT-EBC (High Transmission Electron Beam Coating) spoločnosti Fujifilm a poskytuje výnimočnú kvalitu obrazu plnú detailov a živých farieb.

Vnútorný zaostrovací mechanizmus S vnútorným zaostrovacím mechanizmom sa predná časť objektívu počas zaostrovania neotáča ani nevysúva. To pomáha používateľom, ktorí pracujú s polarizačnými filtrami resp. neutrálnym gradovaním denzity.

Maximálna clona F2,8 XF16-55mmF2.8 R LM WR má maximálnu clonu F2.8 v celom rozsahu, čo je skvelé na obmedzenie hĺbky ostrosti a je tiež užitočné pri práci v podmienkach so slabým osvetlením.

Dizajn odolný voči poveternostným vplyvom Množstvo gumových utesnení použitých v celej konštrukcii modelu XF16-55mmF2.8 R LM WR znamená, že ho možno použiť za každého počasia. Tesnenia odpudzujú vlhkosť a prach a navyše chránia objektív pred nízkymi teplotami. Vďaka týmto tesneniam bude objektív naďalej perfektne fungovať pri teplotách až -10 °C.

Shooting Mode: Manual
Image Size: 4160 x 6240
Sensitivity: ISO 640
Dynamic Range: 100％
Aperture: F5.6
Shutter Speed: 1/1000
Lens Focal Length: 21.0mm
White Balance: Custom 1
Film simulation: OFF
Camera: FUJIFILM X-T4

Shooting Mode: Manual
Image Size: 4896 x 3264
Sensitivity: ISO 200
Dynamic Range: 100％
Aperture: F3.2
Shutter Speed: 1/180
Lens Focal Length: 21.0mm
White Balance: AUTO
Film simulation: OFF
Camera: FUJIFILM X-T1

Shooting Mode: Manual
Image Size: 1500 x 1000
Sensitivity: ISO 4000
Dynamic Range: 100％
Aperture: F2.8
Shutter Speed: 1/500
Lens Focal Length: 23.0mm
White Balance: AUTO
Film simulation: OFF
Camera: FUJIFILM X-T10