FUJINON XF16-55mmF2.8 R LM WR

Nano-povlak GI pro optimální kvalitu Objektiv je opatřen ochrannou vrstvou Nano GI Coating, která snižuje zdvojení obrazu a odlesky. Tento povlak spolu s vrstvou Fujifilm HT-EBC (High Transmission Electron Beam Coating) zajišťuje mimořádnou obrazovou kvalitu s úžasnými detaily a živými barvami.

Vnitřní mechanizmus ostření Díky vnitřnímu mechanizmu ostření se přední část objektivu při ostření neotáčí ani nevysunuje. Uživatel tak může pracovat s různými filtry včetně polarizátorů a šedých přechodových filtrů.

Maximální clona F2,8 Objektiv XF16-55mmF2.8 R LM WR má maximální clonu F2,8 v celém rozsahu, což umožňuje snadno omezit hloubku ostrosti a také pracovat při slabém osvětlení.

Konstrukce odolná vůči povětrnostním vlivům Velký počet těsnění v celé konstrukci objektivu XF16-55mmF2.8 R LM WR znamená, že s ním lze pracovat za každého počasí. Těsnění odpuzují vlhkost a prach a navíc chrání objektiv před nízkými teplotami. Díky těmto těsněním bude tento vlajkový model objektivu fungovat bezchybně při teplotách již od -10 °C.

Shooting Mode: Manual
Image Size: 4160 x 6240
Sensitivity: ISO 640
Dynamic Range: 100％
Aperture: F5.6
Shutter Speed: 1/1000
Lens Focal Length: 21.0mm
White Balance: Custom 1
Film simulation: OFF
Camera: FUJIFILM X-T4

Shooting Mode: Manual
Image Size: 4896 x 3264
Sensitivity: ISO 200
Dynamic Range: 100％
Aperture: F3.2
Shutter Speed: 1/180
Lens Focal Length: 21.0mm
White Balance: AUTO
Film simulation: OFF
Camera: FUJIFILM X-T1

Shooting Mode: Manual
Image Size: 1500 x 1000
Sensitivity: ISO 4000
Dynamic Range: 100％
Aperture: F2.8
Shutter Speed: 1/500
Lens Focal Length: 23.0mm
White Balance: AUTO
Film simulation: OFF
Camera: FUJIFILM X-T10